[激光原理与应用-240]：光学器件 - 变形镜，波前校正器

变形镜：自适应光学系统的核心波前校正器

变形镜（Deformable Mirror, DM），又称波前校正器，是自适应光学系统的核心部件，通过主动或被动调整镜面形状，实时校正光路中的波前畸变，提升成像分辨率与光束质量。其核心原理是通过物理手段（如压电效应、电磁力、静电力）改变镜面局部曲率，补偿入射光的相位误差，使波前恢复平整。

一、技术原理与分类

工作原理

变形镜通过驱动器阵列（如压电陶瓷、音圈电机、MEMS微机电系统）控制镜面形变。当波前传感器检测到畸变（如大气湍流、光学系统像差）时，控制系统计算所需形变量，驱动镜面产生相反的变形，从而校正相位误差。例如，压电陶瓷在电压下膨胀/收缩，推动镜面局部变形，分辨率可达纳米级。

分类方式

按面形：

连续表面变形镜：校正精度高，适用于高阶像差校正（如天文望远镜、视网膜成像）。分立表面变形镜：变形量大，适用于大尺寸系统（如激光武器、高能激光加工）。

按结构：

分离促动器型：驱动器独立控制，灵活性高。拼接子镜型：由多个小镜面拼接而成，适用于超大口径系统。薄膜型：采用柔性薄膜作为反射面，响应速度快。双压电型：利用压电陶瓷的横向压电效应，实现局部弯曲变形。

按驱动方式：

压电驱动：分辨率高，但行程有限。电磁驱动：行程大，但响应速度较慢。静电驱动（MEMS）：响应速度快，但行程小，适用于精密校正。

二、核心性能参数

驱动器数量与排列

驱动器数量越多，校正能力越强（如19单元适用于低阶像差，140单元以上可校正高阶像差）。六边形阵列比方形阵列覆盖更均匀，能减少校正死角。

形变量与动态范围

最大形变量决定像差校正范围，需考虑相邻执行器的机械耦合效应。例如，双压电片变形镜适用于中小口径系统，而压电变形镜（PDM）可耐受10~30kW连续激光，适用于高功率激光系统。

响应速度与迟滞

MEMS变形镜响应速度达微秒级，适合高频动态校正。压电变形镜响应速度为毫秒级，需结合控制系统带宽需求。压电材料存在迟滞效应，需通过闭环控制或前馈补偿降低影响。

表面平整度与线性度

开环平整度（初始镜面精度）通常为λ/10~λ/20（λ=633nm），影响校正起点。闭环平整度（校正后残余误差）通常要求<λ/50，确保高精度校正。形变量与电压的线性关系越好，开环控制精度越高。

三、典型应用场景

天文观测

实时校正大气湍流引起的波前畸变，提升望远镜成像分辨率。例如，Gemini North望远镜采用177单元变形镜，实现可见光波段观测，分辨率达0.022角秒。

激光通信

补偿大气扰动，保障星地高速数据传输。例如，激光通信系统中采用变形镜校正光束漂移，提升链路稳定性。

激光加工

动态调整光斑形状，实现非平面材料的精密加工（如航空发动机叶片修复）。例如，工业激光加工中采用变形镜校正热畸变，提升加工精度。

医学成像

自适应光学视网膜成像：校正人眼像差，实现视网膜细胞级分辨率。例如，自适应光学眼底成像系统采用变形镜，分辨率达2μm。显微成像：消除样品折射率不均导致的像差，提升深层组织成像质量。

光学测试

模拟复杂波前，校准光学系统。例如，变形镜可用于测试望远镜、显微镜等系统的成像性能。

四、技术发展趋势

高精度与高速化

随着新材料（如碳化硅、超薄玻璃）和新工艺（如微纳加工）的应用，变形镜的校正精度和响应速度不断提升。例如，MEMS变形镜的响应速度已达微秒级。

小型化与低成本化

MEMS技术的成熟推动了变形镜的小型化与低成本化，使其在消费电子、工业检测等领域的应用成为可能。

多学科融合

变形镜与人工智能、机器学习等技术的结合，将实现更智能的波前校正与光束控制。例如，基于深度学习的波前预测算法可提前调整变形镜形变，提升系统响应速度。

五、代表产品与参数对比

产品型号驱动器数量最大行程响应时间应用场景Mini-DM32（6×6）1.5μm20μs实验室规模自适应光学系统Multi-DM140（12×12）3.5μm100μs共聚焦显微镜、视网膜成像Kilo-DM1024（32×32）1.5μm20μs航天与激光通讯压电变形镜（PDM）定制10~30μm毫秒级高功率激光系统MEMS变形镜定制<5μm微秒级精密校正、消费电子